光刻机 概要 主要厂商 导航菜单改善这篇条目
半导体器件制造電子技術
大规模集成电路
 | 本條目没有列出任何参考或来源。 (2017年3月10日) |
法国研究所暗室中的小型曝光機 左:EVG-620 右:MA-150
曝光機（英语：Mask Aligner）是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。可以分为两种，分别是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴晶元；以及利用类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样。
概要
生产集成电路的简要步骤：
- 利用模版去除晶圆表面的保护膜。
- 将晶圆浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。
- 用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。
其中曝光機就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。
一片晶圆可以制作数十个集成电路，根据模版曝光机分为两种：
- 模版和晶圆大小一样，模版不动。
- 模版和集成电路大小一样，模版随曝光机聚焦部分移动。
其中模版随曝光機移动的方式，模版相对曝光機中心位置不变，始终利用聚焦镜头中心部分能得到更高的精度。成为目前的主流。
主要厂商
曝光機是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。因此曝光機价格昂贵，通常在 3 千萬至 5 億美元。
- ASML
- 尼康
- 佳能
- 欧泰克
- 上海微电子装备
- SUSS
- ABM, Inc.
